光学系、照明、レーザー
光学系の総合設計

設計プロセスの初期段階から最終段階までサポートする業界標準のソフトウェア

設計性能の
自動的な改善

改良された最適化ツールでは、迅速な設定とカスタマイズ可能な制約により、手動による設計の繰り返しに代わって性能を自動的に改善できます。

製造性と
生産効率の確保

設計プロセスを開始する前に、設計の制約に製造と組み立ての公差を設定

設計ミスの最小限化
試作コストの削減

高精度なシミュレーションを実現する単一のシームレスなソフトウェア プラットフォームで利用できる最も正確なモデリング ツール

OpticStudio 

OpticStudio は、複雑な物理および対話型ビジュアル機能と組み合わせた直感的なユーザー インターフェイスを備えた、光学エンジニアに不可欠のソフトウェア プラットフォームであり、革新的な技術を推進すると同時に開発コストを低減します。 Zemax の最も重要な使命は、光学エンジニア、研究者、科学者の皆様が製造性に優れた製品を設計できるようにすることにあります。 

OpticStudio™ による高速で高精度な設計ツールを光学設計の現場にお届けします。 各ツール セットは工学設計プロセスの主要な手順に合わせて作成され、このソフトウェアの主要機能を構成しています。 解析、最適化、公差解析の各ツール セットには物理学に基づく優れたアルゴリズムが多数用意され、光学系の解析、シミュレーション、最適化のすべてを公差仕様の範囲内で実行できます。

OpticStudio の優位点

汎用性と機能
OpticStudio 独自の優位点は、シーケンシャル モデルからノンシーケンシャル モデルへの移行、シーケンシャル モデルから物理光学伝搬への移行がシームレスであることです。 この移行機能により、OpticStudio のみでさまざまな汎用光学系、照明、レーザー光学系を扱うことができます。
 

容易になった最適化
製造性設計の重要な手順として、コスト効率を確保する最適化があります。 OpticStudio では、この最適化プロセスを複数のレベルで自動化し、経験の浅い設計エンジニアでも容易に使用して理解できるようにすると同時に、経験豊富なエンジニアには高度なツールとアルゴリズムを提供します。 
 

確実に最適解を得られる 3 つの公差解析ソリューション
あらゆる仕様の下で変動として発生する可能性のある総量を定義することは、単独の部品の適合性だけでなく、目的の用途に対する光学系全体の適合性を実現するうえで最も重要です。 公称寸法の上下限を把握する重要性は誰もが認めるところでが、これらの限界値を判断するための情報がすべて入手できるとは限らず、また限界値を超えた場合に発生する現象を知っておく必要もあります。 OpticStudio には、公差解析のニーズに対応することを主眼に用意された機能として、既知の公差によって光学系に発生する変動を把握する機能、OpticStudio で公差を計算する機能、すべての公差による影響を同時にシミュレートする機能の 3 種類が用意されています。
 

CAD の統合
どのような光学系設計と照明設計でも重要で避けて通れない機能が、他の CAD プログラムとの統合です。 OpticStudio では、Premium Edition の機能として CAD とのシームレスな統合機能を用意しているので、統合のためのモジュールやプログラムを別途購入する必要がありません。

主な特徴 :  シーケンシャル モデルとノンシーケンシャル
モデル間のシームレスな移行

設計ロックダウン ツールは、光学機械の解析と生産に向けてシーケンシャル光学系を準備する際に必要となる数々の操作を自動化します。 このツールでは、半径から固定アパチャーへの変換、ビネッティング ファクターから固定アパチャーへの置換、像基準の視野定義から物体定義の視野定義への切り替え、ソルブの削除、厚みの値の丸め処理を実行します。

クリティカル光線セット ジェネレータは、ノンシーケンシャル モードで追跡可能な一連の参照光線を生成します。 これらの光線は、ノンシーケンシャル モードで指定した光学機械的な変更を適用した状態で光学系の性能を検証するうえで効果的です。 これらの光線をノンシーケンシャル モードで追跡するには、クリティカル光線追跡機能を使用します。